화학공학소재연구정보센터
학회 한국공업화학회
학술대회 2006년 봄 (05/12 ~ 05/13, 전북대학교)
권호 10권 1호
발표분야 화학공정
제목 동 회수 및 재생인산 정제 공정에서 발생하는 유해가스 처리 공정 개발
초록 국내의 중소기업들 중 전자기판 칩 동편에 도금된 주석을 질산으로 용해하여 동을 재생하는 공정 및 반도체 세척공정에서 발생되는 질산, 초산, 인산 혼합 폐액으로부터 정제 인산을 재생/농축하는 공정에서는 질산, 염산 등과 같은 강산을 용매로 사용하므로 반응 과정에서 염화수소, 질산 가스, 질소산화물 등의 유해가스가 지속적으로 배출되고 있으며, 각 중소기업들은 이러한 유해가스 배출에 의한 열악한 작업환경으로 인하여 인력수급에 큰 어려움을 겪고 있는 실정이다. 따라서, 본 연구에서는 동 회수 공정 및 인산 정제 공정에서 다량으로 발생하는 염화수소, 질산 가스, 질소 산화물 등의 유해가스를 이젝터 및 저온 응축 공정을 거쳐 회수한 후 재활용함으로써, 생산현장에서 발생하는 작업자의 유해가스 직접 노출 및 대기배출, 발생 염 제거를 위한 단순반복 노동 등과 같은 작업자의 열악한 작업환경을 개선하고 생산원가를 절감할 수 있는 장비를 개발하였다.
저자 정석우, 강경훈, 이정묵
소속 고등기술(연)
키워드 이젝터; 저온응축회수장치; 유해가스; 동 회수; 재생인산
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