| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2012년 가을 (10/31 ~ 11/02, 대전컨벤션센터) |
| 권호 | 16권 2호 |
| 발표분야 | 포스터-전기화학 |
| 제목 | Electrochemical etching of a niobium foil for electrolytic capacitors |
| 초록 | 전해커패시터의 정전용량은 유전체의 유전율과 전극의 반응 표면적에 비례하고 유전체의 두께에 반비례한다. 본 연구에서는 전해커패시터의 정전용량을 증가시키기 위해 유전율이 높은 유전체를 사용하고, 전극의 반응 표면적을 증가시켰다. 일반적으로 전해커패시터에 많이 사용되는 알루미늄 산화물의 유전상수는 약 7이며, 본 연구에서는 약 42의 유전상수를 가지는 니오븀 산화물의 표면적 증대를 위한 에칭 연구를 수행하였다. 결과적으로 니오븀 foil 자체의 정전용량 18.9967 µFcm-2 인 것에 비해 50 V에서 HF 1ml 으로 실험하였을 때 379.6902 µFcm-2으로 약 20 배 높은 정전용량을 얻을 수 있었다. |
| 저자 | 김경민, 최진섭 |
| 소속 | 인하대 |
| 키워드 | electrolytic capacitor; niobium oxide; etching; etched niobium |
