화학공학소재연구정보센터
학회 한국화학공학회
학술대회 2001년 봄 (04/27 ~ 04/28, 연세대학교)
권호 7권 1호, p.449
발표분야 공정시스템
제목 비선형 품질 추론 모델을 적용한 연속 및 회분/반회분 공정에서의 품질 제어
초록 본 연구에서는 비교적 간단한 구조의 비선형 품질 추론 모델을 이용하여 연속 공정 및 회분/반회분 공정에서의 품질 추론 제어 기법을 소개하였다. 또한 제안된 비선형 품질 추론 제어 기법을 연속 공정의 제어시 연속 공정 제어에 있어서 가장 널리 사용되고 있는 모델 예측 제어(Model Predictive Control) 기법과 결합하여 연속 공정을 위한 제어기를 설계하여 기존의 추적 제어와 품질 추론 제어가 동시에 수행될 수 있도록 하였으며 회분/반회분 공정의 제어시 본 연구실에서 발표한 바 있는 품질 제어 기능이 보강된 회분 공정용 모델 예측 제어(QBMPC) 알고리듬의 품질 추론 제어 부분을 제안된 비선형 품질 추론 모델을 적용하여 추적제어와 최종 품질 변수에 대한 품질 추론 제어를 수행하였다. 또한 기존의 선형 품질 추론 모델을 사용했을 때의 결과들과 제안된 기법을 사용했을 때의 결과를 비교하여 제안된 기법의 성능을 보였다.

저자 진인식1, 이광순2, 최진훈, 이재형
소속 1서강대, 2Georgia Ins. of Tech. 화학공학과
키워드 Continuous and Batch Processes Control; Quality Control; Nonlinear Inferential Control
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원문파일 초록 보기