| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2013년 가을 (11/06 ~ 11/08, 제주롯데호텔) |
| 권호 | 19권 2호 |
| 발표분야 | B. 나노 재료(Nano Materials) |
| 제목 | Surface properties of colloidal silica prepared from various method |
| 초록 | 콜로이달 실리카는 TMOS (Tetramethoxy orthosilicate)혹은 TEOS(Tetraethoxy orthosilicate), silicon powder, Sodium silicate 등의 원료로부터 가수분해, 산화, 이온 교환 등을 통하여 제조된다. 이러한 제조방법에 따라 입자 표면의 –OH수, 이온 흡착량, 제타 전위, 표면 전위 등 그 표면특성이 달라지게 된다. 따라서 콜로이달 실리카의 적용분야에 있어서 적절한 졸의 선택을 위해 졸 입자 표면특성에 따른 물성을 정확히 파악하여 한다. 본 연구에서는 가수분해법, 직접 산화법, 이온 교환법의 세 가지 방법에 의해 제조된 콜로이달 실리카의 크기에 따른 표면 특성을 연구하였다. 실험 인자로서 콜로이달 실리카의 부피 분율 및 pH를 다르게 하여 졸의 제타 전위, 횡 완화시간, 표면 전위, 비표면적 등을 측정하고 그 표면 특성을 논의하였다. |
| 저자 | 조경숙, 이승호, 이동현, 김대성, 임형미 |
| 소속 | 한국세라믹기술원 에코복합소재센터 |
| 키워드 | colloidal silica; preparation method; zeta potential; surface charge |
