| 학회 |
한국공업화학회 |
| 학술대회 |
2007년 봄 (05/11 ~ 05/12, 계명대학교) |
| 권호 |
11권 1호 |
| 발표분야 |
화학공정 |
| 제목 |
폐 Photoresist Stripper로부터 고순도 유기용제 회수 |
| 초록 |
Photoresist stripper는 TFT-LCD 및 차세대 반도체 공정의 개발에 따라 계속적으로 개발되어 그 조성이 변하게 된다. 그러나, NMP, BDG, MEA 등 재활용이 가능한 용제가 주성분이다. 따라서, 수입대체 효과뿐만 아니라 환경오염 및 폐자원 처리 비용의 저감, 그리고 자원사용의 극대화를 위해 용제의 회수가 필수적이다. 본 연구에서는 폐 photoresist stripper로부터 베치 타입의 증류 공정을 이용하여 수분 0.05%이하, 잔존 금속성분이 10ppb 이하, 99.5%이상의 고순도로 유기 용제를 회수할 수 있음을 확인하였다. |
| 저자 |
오한상1, 김대진2, 박명준1, 이문용2, 구기갑3
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| 소속 |
1서강대, 2바이오융합기술 협동과정, 3코렉스 |
| 키워드 |
Photoresist stripper; 유기용제 회수
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