| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2009년 봄 (05/21 ~ 05/22, 무주리조트) |
| 권호 | 15권 1호 |
| 발표분야 | 반도체재료 |
| 제목 | RF power와 박막 증착 온도 변화에 따른 AZO 박막의 특성 (Properties of AZO thin films deposited with different RF powers and deposition temperatures) |
| 초록 | TCO(transparent conductive oxide)는 얇고 편평한 디스플레이와 태양전지의 전극으로 주로 사용되며 디지털기기의 사용 급증과 끊임없이 진보해가는 디스플레이 산업에 발맞추어 연구와 개발이 계속되어 가고 있다. Wide band gap 물질인 ZnO는 Al, Ga, B 등의 원소를 doping함으로써 carrier concentration 및 hall mobility를 높여주고 환경에 안정적인 외인성 ZnO를 만드는 것으로 기존에 TCO물질로 이용되던ITO에 비해 경제적으로 제작할 수 있다는 장점이 있다. 그 중 AZO는 저온 공정에서 제작이 가능하며, H2분위기에서 안정하고, Al3+ 이온이 Zn2+ 이온을 치환함으로써 전기적 특성을 향상시킨다. 본 연구에서는 RF Sputtering 방법으로 Al이 3 % doping된 AZO single target을 사용하여 RF power와 증착 온도를 변수로 두어 유리 기판 위에 AZO 박막을 증착하였다. RF power 의한 박막 내 Al 함량의 변화와 증착 온도에 의한 박막의 결정성의 변화에 따른 박막의 특성을 비교 평가 하였다. 또한 후처리 공정을 통해 박막의 전도성을 향상시키고자 하였으며, 이는 공정 분위기 및 온도를 변수로 하여 박막의 특성변화를 관찰하였다. AZO 박막의 표면과 두께는 SEM(scanning electron microscope)과 surface profiler를 이용한 분석을 통해 확인하였고 XRD (x-ray diffractometer)를 이용하여 결정학적 특성을 관찰하였으며, Van der Pauw 방법을 이용한 hall 측정을 통해 resistivity, carrier concentration, hall mobility를 분석하였다. 또한 UV-vis를 이용하여 박막의 투과율을 분석하였으며 이를 토대로 투명 전극으로써 활용가능성을 확인하였다. |
| 저자 | 신범기, 김성연, 이민정, 이태일, 명재민 |
| 소속 | 연세대 |
| 키워드 | transparent conductive oxides (TCO); AZO; RF sputtering; H2 annealing treatment |
