| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2018년 봄 (05/02 ~ 05/04, 대구 엑스코(EXCO)) |
| 권호 | 22권 1호 |
| 발표분야 | (특별세션) 반도체 공정소재 |
| 제목 | Applications of Atomic Layer Deposition technology in various industries |
| 초록 | 원자층 단위의 제어가 가능한 ALD 기술은 high-k, metal gate 등의 이슈에 대응하면서 반도체 메모리의 집적도와 성능 향상에 꾸준히 기여해왔다. 현재까지도 ALD 기술의 가장 큰 응용분야는 반도체 메모리 분야이지만, 최근 ALD 기술의 self-limiting 성막 특성이 다양한 산업 분야에서 활발하게 연구되고 있다. 본 발표에서는 전통적인 응용분야인 반도체 메모리뿐만 아니라 이차전지, 연료전지, gas 센서, 바이오 등의 비반도체 영역에서 ALD 기술이 어떻게 적용되고 있는지, 그 이슈는 무엇인지에 대해서 소개하고자 한다. |
| 저자 | 양우영 |
| 소속 | 삼성종합기술원 |
| 키워드 | ALD; DRAM; high-k; new application |
