화학공학소재연구정보센터
학회 한국공업화학회
학술대회 2012년 가을 (10/31 ~ 11/02, 대전컨벤션센터)
권호 16권 2호
발표분야 포스터-환경.에너지
제목 전자산업공정에서 발생하는 입자상 물질과 Water Vapor 제거를 위한 처리방식에 대한 비교 연구
초록 전자산업공정에서 발생하는 입자상 물질과 Water Vapor 제거를 위해 현재 많은 연구가 진행되어 왔다. 이에 본 연구에서는 열전소자, Filter & Mist Eliminator를 사용하여 처리하는 방식과 기존 처리방식에 대한 비교를 통해 보다 효율적인 방법을 연구하고자 한다.
저자 권성안, 김춘이, 강효경, 이상준
소속 평택대
키워드 SiO2; 열전소자; Fiter; Mist Eliminator
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