화학공학소재연구정보센터
학회 한국화학공학회
학술대회 2006년 가을 (10/27 ~ 10/28, 고려대학교)
권호 12권 2호, p.2613
발표분야 촉매 및 반응공학
제목 Photocatalytic characterization of the TiOx fabricated by CVD using TDMAT as Ti precursor
초록 Si 기판 위에 He 또는 NH3 분위기 하에서 TEMAT를 열분해시켜 TiN을 증착한 결과, 불순물로 O와 C원자가 포함된 다공성 TiN을 형성되었다. 본 연구에서는 TDMAT의 열 분해온도에서 대응 반응물로 H2O2와 NH4OH 용액을 각각 사용하여 C와 N이 함유된 다공성 TiOx를 제조하고, 대응 반응물에 따른 증착 조건 및 C, N의 함량 그리고 열처리 조건에 따른 광촉매 특성을 알아 보고자 한다. 실험 방법은 200~300℃ 온도에서 TDMAT와 대응 반응물로서 NH4OH 용액과 H2O2를 각각 이용하여 Si bare 기판 위에 다공성 TiOx를 증착시킨 후 O2 분위기에서 300~500℃의 온도 범위에 걸쳐 열처리함으로써 anatase상의 TiOx를 만들고, 가시광선 영역에서의 광촉매 특성을 살펴보기 위해 열처리한 기판을 메틸렌 블루 수용액에 담근 후 가시광선을 조사하여 시간에 따른 메틸렌 블루 수용액의 농도 변화를 UV-Visible Spectro- photometer를 사용하여 측정하였다. 박막의 전기적 특성과 결정 구조는 Four-point probe와 X-ray Diffractormeter를 각각 사용하였고, 표면 형태 및 Step coverage, 불순물 농도는 FE-SEM과 AES를 통해 분석하였다.
저자 김연홍, 정 훈, 김도형, 임경택
소속 전남대
키워드 Photocatalyst; CVD; Titanium Oxide
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원문파일 초록 보기