| 초록 |
차세대 노광 기술로서 EUV 노광 기술이 각광을 받고 있으나 실제 운용시 헤이즈형성, 신세정공정과의 조합 및 노광에 따른 내구성 등의 연구가 미비한 상태이다. 특히 경제적인 공정을 설계하기 위해선 효율적인 EUV mask의 세정 기술이 필요하다. 현재까지 연구된 세정 기술 중 DIO3를 이용한 세정 방법은 경제적이면서 뛰어난 유기물 제거 능력을 가지고 있지만, capping layer인 Ru 을 oxidation 시켜 표면의 roughness를 증가시키기 때문에 EUV mask 세정에는 적합하지 않다는 연구가 보고된 바 있다. 그러나, DIO3 에 의한 EUV mask의 세정효과를 판단하기 위해서는 DIO3에 의한 Ru capping layer 표면의 특성 변화에 관한 다양한 측면에서의 분석이 필요하다. 본 연구에서는 다양한 농도와 시간 조건의 DIO3을 사용하여 EUV mask를 세정하고, 각각의 조건에서 Ru capping layer의 표면 변화를 결정구조, 표면 거칠기, 반사도, 유기물 흡착 등의 분석을 통해 세정효과와 연계하여 파악하였다. Ru 표면의 결정구조는 FE-TEM을 이용하여 분석하였고, XPS를 통해 Ru capping laye의 화학상태를 분석하였다. 또한, AFM을 이용하여 표면의 거칠기 변화를 관찰하였으며, FT-IR을 통하여 유기물 흡착을 확인하였다. |
