| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2018년 가을 (10/31 ~ 11/02, 제주국제컨벤션센터(ICC JEJU)) |
| 권호 | 22권 2호 |
| 발표분야 | 전기화학_포스터 |
| 제목 | Pulse-reverse electroplating을 통한 3가 크롬 도금막의 물성 향상 연구 |
| 초록 | 크롬 도금은 내마모성, 경도, 내부식성 등이 우수하고 푸른 은백색 광택을 가진다. 그렇기 때문에 장신구에 이용되며 자동차 내장재, 반도체 공정 부품 등 다양한 분야에 적용되고 있다. 일반적으로 크롬도금은 6가 크롬이온을 이용하는데 이는 최근 유럽에서 강력한 규제 대상으로 선정돼 이를 대체하기 위한 도금 연구가 활발하다. 본 연구에서는 규제대상인 6가 크롬 도금을 친환경적인 3가 크롬을 이용해 대체하고자 하는 연구를 진행하였다. 3가 크롬도금은 내마모성 및 내식성 등 6가 크롬도금의 물성에 미치지 않는다. 기존의 크롬 도금 방법으로는 direct current(DC)를 이용하는데, 3가 크롬 도금의 물성 향상을 위해 본 연구에서는 pulse-reverse electroplating(PR) 방법을 이용해 연구를 진행하였다. PR 방법에서는 변수 최적화의 문제점을 갖고 있다. 그중 환원전류밀도를 한정하기 위해DC를 이용했으며, 이후 PR 방법을 이용해 변수에 대한 물성의 경향성을 파악하고 DC를 이용한 도금층과 물성을 비교하는 연구를 진행하였다. |
| 저자 | 임채원, 공형석, 나린, 백성현 |
| 소속 | 인하대 |
| 키워드 | Chromium electroplating; Pulse-reverse electroplating; Trivalent chromium; Protection |
