| 학회 | 한국고분자학회 |
| 학술대회 | 2010년 가을 (10/07 ~ 10/08, 대구 EXCO) |
| 권호 | 35권 2호 |
| 발표분야 | 고분자 가공/복합재료 |
| 제목 | Black matrix용 포토레지스트의 제조에 관한 연구 |
| 초록 | Black matrix(BM)는 LCD 패널에서 R,G,B 패턴간의 색간섭을 막고 외부에서 들어오는 빛의 반사를 방지하여 Gray Scale 조절과 Contrast ratio를 높이는 역할을 하고 있다. 현재 BM은 Carbon계열의 흑색안료를 사용하고 있으며 광경화형 고분자 바인더기를 함유하고 있어 Lithography 공정을 적용하여 제조 되고 있다. 본 연구에서는 CB안료와 나노세라믹입자를 공분산한 밀베이스를 이용하였다. 제조된 밀베스의 입자사이즈는 약 150nm 전 후 였다. 얻어진 BM은 Optical density(OD) 4이상 유전상수 3이하를 나타내었으며 기존 BM 대비 30%이상의 탄성율을 나타내었다. 또한 상온에서 15일 이상 분산안정성을 유지하였다. |
| 저자 | 이동근, 배진영 |
| 소속 | 성균관대 |
| 키워드 | black matrix; 밀베이스; LCD |
