| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2011년 봄 (05/11 ~ 05/13, 제주국제컨벤션센터) |
| 권호 | 15권 1호 |
| 발표분야 | 환경.에너지 |
| 제목 | Large area Anti-Reflection wet etching process for silicon solar cell |
| 초록 | 태양전지의 전극 형성시 스크린 프린팅법을 사용하는 SPSC(Screen Printed Solar Cell)는 일반적으로 제조하기 용이하지만 변환효율이 낮은 편이다. 한편, BCSC(Buried Contact Solar Cell)는 사진식각 공정이나, 레이저 공정 또는 기계적 연삭방법을 이용하여 변환 효율이 높지만 SPSC 에 비해 제조원가가 높고 공정이 복잡하다. 본 연구는 반사율을 줄임으로써 투과율을 높이기 위해 형성되어있는 Anti-Reflection Coating 층을 maskless 전기-화학적 나노식각 공정을 적용하여 BCSC의 종전의 공정보다 훨씬 저렴하고 용이한 태양전지의 제조방법을 제안한다. |
| 저자 | 이은경, 임재홍, 임동찬, 이규환 |
| 소속 | 재료(연) |
| 키워드 | BCSC; 태양전지; 식각 공정 |
