| 초록 |
Photoreactive polymer는 프린팅 기술, 직접회로 및 디스플레이 제조등의 microlithography공정에서 다양하게 응용되고 있다. 이러한 용도로 사용되기 위해서 Photoreactive polymer는 높은 투명성과 내열성이 요구된다. 본 연구에서는 투명성이 높은 cyclohexane type의 에폭시 수지에 광경화 특성 및 내열성을 부여하기 위해 cinnamate group을 가진 t-cinnamic acid, 2-hydroxy t-cinnamic acid 등을 도입함과 동시에, acryl 계열의 치환기인 acryloyl chloride를 첨가함으로써 투명성과 내열성을 극대화한 새로운 Photoreactive polymer를 합성하였다. 에폭시와 cinnamate group을 THF용액에 75℃에서 50시간 교반 후, aromatic ring을 포함한 acryloyl chloride를 첨가하여 30℃에서 다시 12시간 교반시켰으며, 이렇게 합성된 고분자를 quartz glass에 스핀 코팅하여 thin film을 제작하였다. 스핀 코팅한 thin film은 70℃에서 30분간 pre-curing 후 254, 365nm UV lamp로 20분 동안 광경화시켰다. 경화된 고분자 필름의 투명성은 UV-Vis spectroscopy를 이용하여 측정하였고, 내열성을 조사하기 위해 TGA를 이용하여 측정하였다. |
