| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2006년 봄 (05/12 ~ 05/13, 전북대학교) |
| 권호 | 10권 1호 |
| 발표분야 | 무기재료 |
| 제목 | Cinnammate 작용기를 지닌 무기고분자 전구체를 이용한 SiCN 세라믹 패턴 제조 |
| 초록 | 무기고분자형 negative 감광성 Photoresist 조성물은 자외선(UV) 광원을 이용한 photolithography 공정으로 특정 패턴과 미세 구조물을 제조함은 유기고분자 Photoresist 와 동일하지만 패턴 전사 후 희생층으로서 제거되는 것이 아니라, 경화된 무기고분자 구조가 열처리를 통해 궁극적으로 세라믹 패턴 및 미세 구조물로 전이됨으로서 내화학성, 내열성, 내마모성이 요구되는 미세 소자의 세라믹 부품으로서 활용된다.따라서 본 연구에서는 이러한 무기고분자를 이용하여 SiH/vinyl 작용기 또는 SiH/NH 작용기 사이에서 일어나는 탈수소화반응과 같이 각종 촉매 및 첨가제를 이용한 장시간의 가열 가교과정을 거쳐 세라믹으로 전이시켰고. 또한 무기고분자와 라디칼 개시제의 단순 혼합물을 활용하여 SiC계 패턴 및 구조물을 제조 할수 있었다. |
| 저자 | 김석선, 김동표 |
| 소속 | 충남대 |
| 키워드 | SiCN; photolithography; Cinnamoyl Moiety |
