화학공학소재연구정보센터
학회 한국고분자학회
학술대회 2009년 봄 (04/09 ~ 04/10, 대전컨벤션센터)
권호 34권 1호
발표분야 고분자 구조 및 물성
제목 Generation and charicterizaiton of surface energy gradient on silicon wafer through controlled UV irradiation
초록 유기전자공학, 바이오 분야 등에서 특정한 표면 에너지를 가지는 기판에 대한 요구가 증대하고 있다. 최근 조합기법을 이용한 고효율 분석에 관한 관심이 고조되면서, 하나의 기판에 서로 다른 표면에너지를 가지는 표면을 구성하는 연구가 이슈화되고 있다. 이러한 표면구배형성은 조합(combinatorial)기법을 응용하여 도료 및 접착제 등으로 활용이 가능하며, 고분자 재료의 코팅막 특성 분석에 유용한 정보를 제공한다. 본 연구에서는 정밀하게 구동되는 표면에너지구배 장치를 설계하고 제작하였다. 실리콘 웨이퍼 기판 위에 ODS (n-octyldimethylchlorosilane)을 이용하여 자기조립단분자막(Self Assembled Monolayer)을 형성하고 SAM 표면 위에 자외선 오존(UV-ozone)을 노출시켜 자유자재로 표면에너지 구배를 형성하였다. 또한 UV 램프(184.9nm 와 253.7nm)을 이용하여 광량에 따른 표면에너지 변화 및 UV조사 시간에 따른 표면에너지의 변화를 확인하였다.
저자 기승범, 정현민, 김용석, 이재흥, 원종찬
소속 한국화학(연)
키워드 surface energy
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