| 초록 |
플라즈마 중합은 용매를 사용하지않는 공정으로 환경친화적이고, 상온공정이며, 증착시간에 비례하여 두께가 증가하기 때문에 다양한 기판위에 우수한 접착력과 pinhole-free를 갖는 초박막제조가 가능하다. 본 실험에서는, thiophene precursor를 이용한 PECVD방법에 의해 전도성 고분자의 나노박막 제조 및 가공을 목적으로 하였다. Plasma polymerized thiophene thin film은 PET,Si(100),glass 기판위에 공정변수를 각각 다르게 하여 특성을 평가, 분석하였다. FT-IR, raman spectroscopy를 이용하여 구조분석을 하였으며, UV-Vis spectrocopy로 energy band gap shift와 투과율을 알아보았다. 두께와 굴절율에 따른 특성을 알아보기 위하여 Spectroscopy Ellipsomety로 측정하였으며, contact angle measurement를 측정하였다. 표면특성을 살펴보기 위하여, 중합조건에 따른 AFM, SEM이미지를 얻었다. |
