| 학회 |
한국화학공학회 |
| 학술대회 |
2001년 가을 (10/19 ~ 10/20, 한밭대학교) |
| 권호 |
7권 2호, p.3143 |
| 발표분야 |
공정시스템 |
| 제목 |
실리콘의 건식식각에서 Microtrench의 생성 메카니즘 |
| 초록 |
실리콘의 건식 식각공정에서 trench 바닥부분에서 발생하는 microtrench는 후속공정에서 trench를 채울 대 빈공간을 만들어 소자의 전기적 특성을 저하시키는 원인이 된다. 이러한 microtrench 현상은 주로 실리콘의 측벽에서 발생하는 이온반사와 여러가지 플라즈마 조건에 의해 발생한다. 본 연구에서는 trench 내부에서 발생하는 이온반사 현상을 모델링하고 식각모사기인 SPEED(simulation of Profile Evolution in Etching and Deposition)를 이용하여 실리콘 식각공정에서 발생하는 microtrench의 생성 메커니즘을 연구하였다. |
| 저자 |
임연호, 한윤봉
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| 소속 |
전북대 |
| 키워드 |
simulation; dry-etch; microtrench; high density plasma
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| E-Mail |
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| 원문파일 |
초록 보기 |
