| 초록 |
고분자 전해질 연료전지 시스템의 특허 동향 분석은 표1과 같이 셀 스택(cell stack)과 시스템 및 운전으로 크게 2개로 분류하여 1985년 1월 1일부터 2006년 5월 31일까지 한국, 미국, 일본, 유럽에 출원된 공개특허를 분석하였다. 셀스텍 분야의 지금까지 발생된 특허건수는 총 2,411건이며, 이 중에서 일본이 1,209건으로 전체의 50%로 절반을 점유하고 있다. 다음으로 미국(800건/33%), 유럽(269건/11%) 순이며, 한국 특허(133건/6%)는 타 국가에 비해 출원 건수가 상대적으로 작다. 각 국가별 연도별 및 국적별 동향은 미국의 경우 자국 출원인이 차지하는 비율이 37%로 외국출원인의 출원이 상대적으로 많으며, 특히 일본이 전체의 36%의 출원율을 보이고 있으며 독일, 한국, 캐나다 등이 비슷한 출원건수로 그 뒤를 따르고 있다. 일본은 다른 국가에 비해 자국 출원 비율이 95%로 대부분을 차지하고 있으며, 출원건수가 2003년도를 정점으로 급격히 줄어드는 경향을 보이고 있다. 타국가의 일본 출원이 그렇게 활발하지 못한 것이 특이 할만한 현상이며, 미국, 한국, 독일 등이 비슷한 건수로 출원하고 있으나, 전체 건수 대비 아주 적은 비율이며 그 중 가장 많은 미국 출원인의 출원도 17건으로 저조한 출원 경향을 보이고 있다. 셀 스택 기술의 연도별 특허 출원 동향을 나타낸 것으로, 전극 촉매 기술 분야가 737건(31%)으로 가장 많고 뒤를 이어 전해질막 533건(22%), 분리판 458건(21%), MEA 400건(17%), 스택 분야 227건(10%), 가스 확산 층 분야가 56건(2%)으로 가장 적게 출원된 것으로 나타나고 있다. |
