| 초록 |
원하는 생성물이 어떤 복합반응의 중간 생성물이거나 가역반응이 일어나서 생성물을연속적으로 제거해야만 높은 전환율을 얻을 수 있는 경우 반응에 의해 생성되는 물질들을증류에 의해 분리해 냄으로써 반응과 증류의 두 가지 조작을 동시에 수행하는 공정을 반응증류라고 한다. 반응 증류탑은 매개변수들에 대한 민감도, 동적 불안정성, 비선형 파동 현상등의 물리화학적 현상이 다양하여 제어하기 어렵다. 최근의 연구결과[1]에서 회분식 반응 증류탑의 탑상농도를 일정하게 제어하는 것은 최적조업결과[2]와 거의 유사한 결과를 보여주었다. 본 연구에서는 에스테르화 반응이 일어나는 회분식 반응 증류탑에 대하여 새로운 제어구조를 적용하였다. 제안된 제어구조는 비선형 파동 모델과 Generic Model Control(GMC)를 결합한 것으로 반응 증류탑의 profile position을 제어할 수 있다. 이 제어 시스템을 일정한 탑상농도를 얻기위해 회분식 반응 증류에 적용하였고 기존의 비례미분제어기와 비교하였다. |
