| 학회 | 한국고분자학회 |
| 학술대회 | 2005년 가을 (10/13 ~ 10/14, 제주 ICC) |
| 권호 | 30권 2호 |
| 발표분야 | 자기조립형 기능성재료 |
| 제목 | 화학적으로 패턴화된 자기조합 단분자층 표면상에서 자기조합 블록 공중합체 박막의 결함 구조 형성 |
| 초록 | 블록 공중합체의 자기조합 현상은 나노구조 제작을 위한 유용한 방법으로 많은 관심을 모으고 있다. 그러나, 실제 나노제작 공정에 응용하기 위해 거시적 구조를 조절하는 방법을 확립하는 것이 해결하여야 할 문제로 지적되고 있다. 이를 해결하기 위해 다양한 방법들이 제시되고 있으며, 그 중 화학적으로 나노패턴화된 표면을 이용하는 에피택시 자기조합 현상이 블록 공중합체 박막의 나노구조 형성을 매우 성공적으로 유도한다는 것이 밝혀졌다[1]. 이 방법에서는 블록 공중합체 나노구조의 주기와 표면 패턴 주기가 어느 정도 일치하느냐가 최종적으로 형성된 나노구조에 큰 영향을 미친다[2]. 표면 패턴의 주기가 블록 공중합체 라멜라의 주기와 일치되지 않을 경우 다양한 결함이 발생된다. 본 연구에서는 나노패턴상에서 표면 위에 블록 공중합체 박막을 형성시킬 경우 나타나는 결함 구조를 연구하였다. 표면 패턴의 주기가 블록 공중합체의 나노구조 보다 작을 경우 서로 반대 방향으로 배열된 한 쌍의 칼날전위가 형성되었다. 한편 표면 패턴의 주기가 클 경우는 오늬 무늬 또는 기울어진 라멜라가 나타났다. Fig.1 표면 패턴의 주기(45nm)가 블록 공중합체의 주기(48nm)보다 작을 경우 나타나는 나노 구조 참고문헌 1. S.O. Kim et. al, Nature 424, 411-414, 2003 2. Mark P. Stoykovich et. al, Science 308, 1442-1446, 2005 |
| 저자 | 김봉훈1, 김광현1, 김상욱1, 구종민2 |
| 소속 | 1한국과학기술원, 2LG화학 |
| 키워드 | block copolymer; self-assembly; thin film; defects |
