| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2009년 가을 (10/22 ~ 10/23, 일산 KINTEX) |
| 권호 | 15권 2호, p.2159 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | 표면 작용기에 의한 실리카 입자의 분산 안정성 연구 |
| 초록 | 나노 입자 서스펜션(suspension)은 분산상인 나노 입자와 연속상인 용매로 이루어져 있는 시스템이다. 서스펜션을 이용함에 있어서 가장 중요한 점은 분산 안정성을 확보하는 것이다. 분산 안정성 확보를 위하여 영향을 주는 변수들에 대한 연구들이 활발하게 진행되고 있다. 기존 문헌에서 언급되고 있는 분산 안정성 변수로는 pH, 용매에 녹아있는 염(salt), 입자의 크기 등이 있다. 이번 연구에서는 실리카를 대상으로 하여 표면 작용기가 다른 입자를 합성하여 입자의 극성과 용매의 극성에 따른 분산 안정성의 변화에 대해 측정해보았다. 실리카 입자 합성은 졸-겔(Sol-Gel)법을 통해 합성하였다. 합성 과정에서 실리카의 원료가 되는 물질을 TEOS(Tetraethyl orthosilicate)와 MTES(Methyltriethoxy silane)로 하여 두 가지의 표면 작용기를 갖는 실리카 입자를 합성하였다. TEOS를 이용해 합성한 실리카는 표면에 -OH기를 갖고 있어서 극성의 성질을 나타내고, MTES을 원료로 합성한 실리카는 표면에 CH3기를 갖고 있기 때문에 비극성의 성질을 갖는다. 두 가지의 입자를 에탄올과 톨루엔에 분산시킨 뒤 Turbiscan을 이용하여 시간에 따른 분산 안정성의 변화를 살펴보았다. 표면이 극성인 TEOS 실리카는 에탄올에 분산시킨 경우 MTES에 비해 분산 안정성이 높았고, 표면이 비극성인 MTES 실리카는 톨루엔에 분산시켰을 때 TEOS보다 분산성이 뛰어났다. 이 연구를 통해 입자 표면 작용기의 극성의 분산 안정성에 대한 영향을 확인하였다. |
| 저자 | 이창훈, 박선희, 김중연, 김성현 |
| 소속 | 고려대 |
| 키워드 | silica |
| 원문파일 | 초록 보기 |
