| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 1999년 봄 (04/23 ~ 04/24, 성균관대학교) |
| 권호 | 5권 1호, p.1925 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | 반도체 기억소자 커패시터용 금속산화물 박막의 CVD |
| 초록 | 본 논문에서는 기억소자의 커패시터로 활용되는 여러 가지 금속산화물 박막 중 에서 Ta2O5, TiO2, 및 RuO2 박막의 CVD에 대한 연구의 현황 및 문제점에 대해 논의하고자 한다. |
| 저자 | 조성민, 양호식 |
| 소속 | 성균관대 |
| 키워드 | CVD; dielectrics; ferroelectrics |
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| 원문파일 | 초록 보기 |
