| 학회 |
한국고분자학회 |
| 학술대회 |
2011년 가을 (10/06 ~ 10/07, 김대중 컨벤션센터) |
| 권호 |
36권 2호 |
| 발표분야 |
유기전자소자용 소재 및 소자(분자전자소재 부문위원회) |
| 제목 |
수분침투저지막 형성을 위한 양극산화 알루미나박막형성에 관한 연구 |
| 초록 |
현재 반도체 및 디스플레이에 사용되는 봉지 공정에는 대부분 유리를 사용하고 있기 때문에, 유연성 기판에 적용하는데 큰 어려움이 있다. 따라서 차세대 플렉시블 디스플레이 및 반도체 소자에 적용하기 위한 유연성 있는 가스 배리어 소재의 개발이 활발하게 연구되고 있다. 알루미늄의 산화물인 알루미나는 높은 결정성을 가져뛰어난 가스 배리어 특성을 지니고 있기 때문에, 차세대 가스 배리어 소재로서 주목받고 있다. 하지만 알루미나 막 형성 시 일반적으로 사용되는 스퍼터링 공정은 공정비용이 높고 생산성이 적어 효과적인 양산에 많은 제한이 있다. 본 연구에서는 상온 상압에서 알루미늄을 알루미나로 변화시킬수 있는 양극산화 공정을 사용하여 수분과 산소의 침투를 효과적으로 저지하는 가스 배리어 박막을 형성하였다. 또한 형성된 알루미나 막의 배리어 성능 향상과 광학적 투명도 향상을 위한 연구가 다각적으로 진행되었다. |
| 저자 |
이형진, 서승우, 정은, 조성민
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| 소속 |
성균관대 |
| 키워드 |
Flexible; Transparent; OLED; Barrier film
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| E-Mail |
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