| 학회 |
한국공업화학회 |
| 학술대회 |
2005년 가을 (10/28 ~ 10/29, 건국대학교) |
| 권호 |
9권 2호 |
| 발표분야 |
고분자 |
| 제목 |
3차원 나노구조의 제조와 응용 |
| 초록 |
템플레이트 합성법을 사용하여 금속이나 고분자의 3차원 나노구조를 제조하였다. 또한 이 구조의 넓은 비표면적을 이용한 응용을 위하여 고효율 기체분리막을 제조하였다. 기존의 고분자 기체분리막은 기체투과도와 선택도가 서로 상반되는 “trade-off” 현상을 가지고 있으므로 실제 기체분리에 사용되기가 어려웠다. 이러한 단점을 해결하기 위하여 고선택도를 가지는 폴리피롤 고분자 박막을 3차원 나노구조로 제조하였고 이 분리막의 강도를 높이기 위하여 양쪽에 실리콘 고분자를 코팅함으로써 고효율의 기체분리막을 제조하였다. 이 기체분리막은 기존의 단성분 고분자막에 비하여 매우 기체분리특성이 향상되었다. 또한 초소형 전자기기의 냉각을 위한 마이크로 히트싱크를 제조하여 그 특성을 측정하였다. |
| 저자 |
홍재민1, 손원일2, 이희섭1, 황지영1, 김일두1
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| 소속 |
1KIST 광전자재료연구센터, 2한화석유화학 중앙(연) |
| 키워드 |
3차원 나노구조; 고효율 기체분리막; 마이크로 히트싱크
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