| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2008년 봄 (05/22 ~ 05/23, 상록리조트) |
| 권호 | 14권 1호 |
| 발표분야 | 전자재료 |
| 제목 | UV 나노임프린트 리소그래피를 이용한 모스 아이 나노 구조 제작 |
| 초록 | 디스플레이, 발광 다이오드, 태양 전지 등의 광소자의 효율을 높이기 위해 나노 구조를 이용한 무반사 코팅에 관한 연구가 활발히 진행되고 있다. 고효율 나노 구조를 소자에 적용시키기 위해서는 정밀도가 높으면서도 공정비용이 저렴하고, 높은 수율을 가지는 공정 방법이 필요하다. 차세대 리소그래피 기술 중의 하나인 나노임프린트 리소그래피 기술은 10nm 이하의 패턴도 8인치 이상의 넓은 면적에 경제적으로 형성시킬 수 있으며 간단한 공정 방법과 저비용, 고효율 등의 장점으로 인해 광소자 시장에서 주목받고 있는 기술이다. 본 연구에서는 UV 나노임프린트 리소그래피 기술을 이용하여 4 인치 유리 기판 위에 모스 아이 나노 구조를 전사하여 무반사 효과를 구현하였다. 우선, 투명한 임프린트 템플레이트 제작을 위해 레이져 간섭 리소그래피 기술을 이용하여 제작된 니켈 템플레이트를 핫엠보싱 공정을 통하여 고분자 필름 위에 복제하였다. 이후 복제된 투명 고분자 필름 위에 자기 조립막 등의 이형 처리를 한 후에 UV 나노임프린트 리소그래피 공정을 수행하였다. 임프린트 장비로는 NND사의 Nanosys 820을 사용하였고 임프린트 레진으로는 켐옵틱스사의 ZPU를 사용하였다. 임프린트 결과 150nm 직경의 모스 아이 패턴이 유리 기판 위에 균일하게 형성되었으며 UV-VIS 투과율 측정 결과 투과율이 92%에서 94%로 증가하는 것을 확인하였고 양면에 형성한 경우에는 투과율이 97%까지 증가하는 것을 확인할 수 있었다. |
| 저자 | 배병주, 이 헌, 홍성훈, 홍은주 |
| 소속 | 고려대 |
| 키워드 | Nano imprint lithography; Moth-eye; Anti-reflection |
