| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2013년 가을 (11/06 ~ 11/08, 제주롯데호텔) |
| 권호 | 19권 2호 |
| 발표분야 | F. 광기능/디스플레이 재료(Optical Functional and Display Materials) |
| 제목 | AZO 박막의 열처리에 따른 전기적 특성 |
| 초록 | 본 연구에서는 RF 스퍼터링법으로 c-면의 사파이어(c-Al2O3) 기판 위에 서로 다른 두께의 AZO (ZnO : Al) 박막을 증착시킨 후 열처리에 따른 전기적 특성과 구조적 특성 및 광학적 특성을 조사하였다. 면적이 10 mm x 10 mm인 사파이어 기판을 RF 스퍼터링 장치에 장착하고 2.0 x 10-6 torr 까지 진공을 배기한 후, Ar 가스를 30 sccm으로 공급하여 공정압력을 3.0 x 10-2 torr로 유지하면서 AZO를 약 10~30 nm 두께로 스퍼터링하였다. RTA 장비를 이용하여 500~700 ℃의 온도범위에서 5~10분 동안 열처리 한 후 XRD, AFM, Hall-effect 및 UV visible 흡수 스펙트럼을 측정하여 열처리 조건에 따른 AZO 박막의 특성을 평가하였다. AZO 박막은 열처리 후에 XRD 회절선의 강도의 증가와 AFM으로 표면을 관찰 한 결과 표면 거칠기의 RMS값이 감소한 것으로부터 결정성이 개선되는 것을 알 수 있었다. 또한 열처리 후에 전기비저항은 3.6 x 10-3 Ωcm 에서 4.9 x 10-4 Ωcm로 증가하였고, 이동도는 3.5 cm2/Vs 에서 14 cm2/Vs 까지 증가하여 전기적 성질이 개선된 것을 확인할 수 있었다. 한편, UV visible 흡수스펙트럼은 열처리 후에 투과율이 증가하였다. |
| 저자 | 이준구, 변창섭, 김선태 |
| 소속 | 한밭대 |
| 키워드 | ZnO:Al; RF sputtering; Thin film; Heat-treatment |
