| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2003년 봄 (04/25 ~ 04/26, 순천대학교) |
| 권호 | 9권 1호, p.1086 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | AFM을 이용한 Si3N4가 코팅된 Si(100) 표면의 패터닝 |
| 초록 | 실리콘 및 다른 반도체의 패터닝에 대한 연구가 오래 전부터 진행되어 왔으나, 그 한계가 마이크로 크기에 한정되었다. STM, AFM 등의 SPM(Scanning Probe Microscopy) 기술은 표면을 나노 크기까지 제어 및 변형할 수 있어서 새로운 lithography 기술로 인식되고 있다. 본 연구에서는 AFM을 이용한 양극산화반응을 유도하여 Si(100) 표면을 처리하였다. Silicon nitride가 코팅된(5 Å thickness) Si 반도체(p-type, 100)를 나노 크기의 siilcon oxide 라인을 형성하였으며, 이는 AFM 및 SEM을 통하여 확인이 가능하다. 본 연구에서는 time-on-current signal을 이용하여 1D 뿐만 아니라 2D 이상의 패턴을 간단한 방식으로 만들 수 있다. 또한 에칭 과정을 통하여 silicon oixde를 선택적으로 제거하여 본래의 이미지와 반대되는 inverse 이미지를 만들 수 있다. |
| 저자 | 최인희, 김창묵, 김영훈, 김진수, 이종협 |
| 소속 | 서울대 |
| 키워드 | AFM; local anodic oxidation |
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