화학공학소재연구정보센터
학회 한국공업화학회
학술대회 2005년 가을 (10/28 ~ 10/29, 건국대학교)
권호 9권 2호
발표분야 정보,전자소재
제목 TFT-LCD 공정 및 기술동향
초록 21세기 접어들어 정보화시대가 급속도로 진행되면서 시간과 장소의 제한 없이 광통신과 멀티미디어를 통한 커뮤니케이션이 이루어지고 있으며, 정보표시장치(디스플레이)의 중요성이 증대되고 있다. 이 중 TFT-LCD의 기술 개발 동향은 크게 3가지로 볼 수 있다. 첫째는 대형 액정 TV의 연구 개발이다. 액정 TV 개발을 위한 기술 개발은 대화면화, 광시야각 확보, 응답 속도 개선 등이다. 두번째는 SOG(System on Glass) 기술 개발이다. 이는 게이트와 Source Driver IC를 TFT 형성 공정시 동시에 내장하여 IC 가격을 절감하여 저원가의 TFT-LCD를 확보하는 기술이다. LTPS(Low Temp Poly Silicon) 기술이 핵심 기술이며, 레이저의 불균일성을 해소하기 위한 새로운 대안으로 SLS(Sequential Lateral Solidification) 등이 결정화 공정으로 연구되고 있다. 셋째는, Flexible Display 연구 개발이다. OTFT(organic thin film transistor)가 핵심 기술이며, 고이동도 및 높은 점멸비를 갖는 반도체 및 절연체 재료의 개발이 요구되고 있다. 그 외 기판재료, Passivation 재료 및 전극재료 등이 연구되고 있다.
저자 강진규
소속 대구경북과학기술(연)
키워드 TFT-LCD
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