| 학회 |
한국고분자학회 |
| 학술대회 |
2009년 가을 (10/08 ~ 10/09, 광주과학기술원 오룡관) |
| 권호 |
34권 2호 |
| 발표분야 |
신진연구자 특별 심포지움 |
| 제목 |
FABRICATION OF NANOSCALE PATTERNS BY NANOIMPRINT LITHOGRAPHY AND THEIR APPLICATIONS |
| 초록 |
나노임프린트 리소그라피 공정은 100nm 이하의 선폭을 구현하는 차세대 리소그라피 장비이다. 공정이 간단할 뿐 아니라 장비 비용도 경쟁력이 있어서 학교나 연구소에서 많은 관심을 가지고 연구를 수행하고 있다. 임프린트를 하기 위해서는 먼저 나노 사이즈의 패턴이 새겨진 마스터 스탬프를 e-beam lithography를 이용해서 제작한다. 이 패턴을 폴리머 레진 위에 눌러서 패턴을 전사시킨다. UV-based imprint방법을 이용하여 17nm half-pitch의 금속 배선을 제작하였다. 이러한 프린팅 방법에 의한 금속 나노선 제작과 여러분야의 디바이스 적용에 대하여 발표하고자 한다. |
| 저자 |
정건영 |
| 소속 |
광주과학기술원 신소재공학과 |
| 키워드 |
Nanoimprint lithography; Imprint resist; Nanoscale patterns
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| E-Mail |
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