한국화학공학회 2003년 봄학술대회 Angular dependences of etch rates of Si and fluorocarbon polymer in SF6, C4F8, and O2 plasmas for advanced Bosch process 민재호, 이겨레, 이진관, 문상흡 (서울대 응용화학부) 목록보기 목록보기
