- 광학 재료용 중합성 조성물, 광학 재료 및 그 제조 방법
- 국제 특허분류 : G02B-001/04, C08G-018/24, C08G-018/38, C08G-018/72, C08G-018/73, C08G-018/75, C08K-005/521
- 출원번호/일자 : 10-2016-7014877 (2016/06/03)
- 공개번호/일자 : 10-2016-0083911 (2016/07/12)
- 출원인 : 미쯔이가가꾸가부시끼가이샤
- 본 발명의 광학 재료용 중합성 조성물은, 폴리이소시아네이트 (A)와, 폴리티올 (B)와, 하기 화학식 (1)로 표시되는 산성 인산 에스테르 (C)와, 극대 흡수 피크가 350㎚ 이상 370㎚ 이하의 범위인 1종 이상의 자외선 흡수제 (D)를 포함하여 이루어지고, 폴리이소시아네이트 (A) 중의 이소시아네이트기의 합계 몰수를 100몰%로 한 경우에 있어서, 2급 이소시아네이트기가 20몰% 이상 포함되고, 산성 인산 에스테르 (C)가, 폴리이소시아네이트 (A)와 폴리티올 (B)의 총 중량에 대하여 100 내지 700ppm의 양으로 포함된다.
- 원문링크 : KISTI NDSL
