- 그래핀 패턴 인쇄 방법, 그에 사용되는 잉크 및 그 제조방법
- 국제 특허분류 : B41M-003/00, B41M-005/50, C09D-011/03
- 출원번호/일자 : 10-2017-0085543 (2017/07/05)
- 공개번호/일자 : 10-2019-0005028 (2019/01/15)
- 출원인 : 한국전기연구원
- 본 발명은 그래핀 패턴의 직접 인쇄 방법에 관한 것이다. 본 발명은 고농도 산화그래핀 시트 및 유동 조절제를 포함하여 유체 유사 거동을 나타내는 잉크를 노즐에 제공하는 단계; 상기 기판 상의 소정 지점에 상기 노즐로부터 방출된 잉크로 액상 잉크의 메니스커스를 형성하는 단계; 상기 노즐을 상기 기판에 수직한 방향, 평행한 방향 또는 이들 방향의 조합에 따른 경로를 따라 이동시키며, 상기 메니스커스의 표면 장력에 의해 상기 노즐의 잉크가 방출되도록 단계; 및 상기 방출된 잉크 중 기판에 가까운 쪽으로부터 용매가 증발하여 상기 노즐의 이동 경로에 대응하는 산화그래핀 구조체 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 그래핀 구조체 패턴의 인쇄 방법을 제공한다. 본 발명에 따르면, 높은 농도의 그래핀 잉크에 의해 수 마이크론 또는 서브 마이크론 크기의 선폭/선간폭 해상도를 갖는 산화 그래핀 패턴을 구현할 수 있다. 이에 따라 3차원 구조체의 인쇄 속도를 획기적으로 향상시킬 수 있게 되며, 동시에 낮은 저항을 갖는 그래핀 구조체의 제조가 가능하게 된다.
- 원문링크 : KISTI NDSL
