- 고효율 원자층 증착장치용 헤드 및 그것을 이용한 원자층 증착장치
- 국제 특허분류 : C23C-016/455
- 출원번호/일자 : 10-2018-0087647 (2018/07/27)
- 공개번호/일자 : 10-2020-0012392 (2020/02/05)
- 출원인 : 제주대학교 산학협력단
- 본 발명은 전구체 및 증착가스를 균일하게 분사할 수 있는 헤드구조를 가진 균일분사로를 갖는 원자층 증착장치에 관한 것이다. 이를 위하여, 본 발명은 이송되는 기판 위에 원자층을 증착시키는 원자층 증착장치용 헤드에 있어서, 상기 헤드는, 가스가 주입되는 복수 개의 주입홀 및 가스가 배출되는 배출홀이 형성되는 탑레이어부; 상기 탑레이어부의 하부에 구비되어 상기 탑레이어부에서 분사된 가스가 기판의 이송방향을 따라 분산되도록 하는 미드레이어부; 상기 탑레이어부 및 미드레이어부 사이에 구비되며, 상기 탑레이어부에서 분사되는 가스의 방향을 바꾸어 균일하게 분산되도록 하는 탑미드분산레이어부; 상기 미드레이어부의 하부에 구비되어 가스가 기판의 폭방향으로 퍼지도록 하는 복수 개의 슬릿이 형성된 바텀레이어부를 포함하여 구성되는 원자층 증착장치용 헤드를 제공한다. 따라서, 본 발명에 의하면, 연속적인 공정으로 종래보다 빠른 속도로 박막이 형성된 휘어지는 기판을 제조할 수 있으며, 기판의 폭방향으로 모든 가스가 균일하게 분사되어 고품질의 박막이 형성된 기판을 제조할 수 있다.
- 원문링크 : KISTI NDSL
