- RTP가 무엇인지 궁금합니다.
- 학부생 (2001/07/09)추천0 조회수1690
- 지난번 연구실 소개를 들은 학생입니다.
하시고 계신 것 중에 RTP란 것이 있던데...
반도체 공정의 일부라고 들은 것 같습니다.
그런데, 정확히 무엇이고, 왜 필요한지 궁금하군요.
답변 주시면 감사하겠습니다.
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연구생 (2001-07-10 11:25:47)+덧글답변
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RTP는 Rapid Thermal Processing의 약자로서 이 공정방법이 등장한건 70년대 후반에 처음 등장했고, 지금도 계속 연구되고 있습니다.
반도체 제조공정에서 실리콘 단결정인 wafer를 가공하여 반도체를 만드는데 있어 많은 열처리 공정(annealing 등)이 있습니다.
이때, 현재 사용하고 있는 공정인 여러장의 wafer를 한꺼번에 처리하는 공정대신에 한장씩의 wafer를 빠르게 열처리하는 방법을 흔히 RTP라고 합니다. 이는 한꺼번에 많은 양을 처리하는 방법보다 높은 performance를 얻기위한 것이고, 당연히 한장씩 처리하기 때문에 속도가 빨라야 합니다. 그래서, 가열속도나 냉각속도를 기존의 장치보다 훨씬 빠른 초당 50~70도의 가열속도나 냉각속도를 보이고 있습니다.
반면에 빠른 속도의 가열과 냉각이 이루어지기 때문에 wafer에 대한 열적부담(thermal budget)을 줄이는 것과 wafer의 각 위치에서 온도의 분포가 일정하게 하는것이 연구목표가 되고 있습니다.
(온도분포가 일정하지 않으면 실리콘 결정의 격자가 깨져버림)
현재는 수많은 반도체 공정중에서 몇개의 공정에서만 사용되고 있으며, 많은 연구가 진행되고 있습니다.
RTP는 Rapid Thermal Processing의 약자로서 이 공정방법이 등장한건 70년대 후반에 처음 등장했고, 지금도 계속 연구되고 있습니다.반도체 제조공정에서 실리콘 단결정인 wafer를 가공하여 반도체를 만드는데 있어 많은 열처리 공정(annealing 등)이 있습니다.
이때, 현재 사용하고 있는 공정인 여러장의 wafer를 한꺼번에 처리하는 공정대신에 한장씩의 wafer를 빠르게 열처리하는 방법을 흔히 RTP라고 합니다. 이는 한꺼번에 많은 양을 처리하는 방법보다 높은 performance를 얻기위한 것이고, 당연히 한장씩 처리하기 때문에 속도가 빨라야 합니다. 그래서, 가열속도나 냉각속도를 기존의 장치보다 훨씬 빠른 초당 50~70도의 가열속도나 냉각속도를 보이고 있습니다.
반면에 빠른 속도의 가열과 냉각이 이루어지기 때문에 wafer에 대한 열적부담(thermal budget)을 줄이는 것과 wafer의 각 위치에서 온도의 분포가 일정하게 하는것이 연구목표가 되고 있습니다.
(온도분포가 일정하지 않으면 실리콘 결정의 격자가 깨져버림)
현재는 수많은 반도체 공정중에서 몇개의 공정에서만 사용되고 있으며, 많은 연구가 진행되고 있습니다.