화학공학소재연구정보센터
번호 제목
9 Real-time Multivariate Model Predictive Control of Plasma Etch Process
박담대, 구준모, 하대근, 유상원, 노현준, 한종훈
한국화학공학회 2016년 가을 학술대회
8 Iterative learning control with quadratic performance index for recipes control of batch-to-batch process
오세규, 이종민
한국화학공학회 2013년 가을 학술대회
7 Amorphous Silicon 증착 PECVD 공정을 위한 실시간 두께 예측 Virtual Metrology 개발
장원혁, 강유진, 이주화
한국화학공학회 2009년 가을 학술대회
6 Delta-form LQG Control Technique combined with Run-to-Run Improvement of Feedforward Signal for Wafer Temperature Uniformity in 12-inch Rapid Thermal Processing
원왕연, 이광순, 이세찬, 지상현, 나병철
한국화학공학회 2009년 가을 학술대회
5 Combined Run-to-Run and Real-time Multivariable Control for Wafer Temperature Uniformity in a 12-inch RTP Equipment
원왕연, 윤우현, 이광순, 지상현, 나병철, 이세찬
한국화학공학회 2008년 봄 학술대회
4 Run-to-Run Control of Inductively Coupled C2F6 Plasma Etching of SiO2: Multivariable Controller Design and Numerical Application
서승택, 이광순, 양대륙, 최범규
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회
3 반도체 및 관련공정의 제어와 최적화
이광순
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회
2 Dry Etching of SiO2 with C2F6 Plasma in an ICP Process: Numerical Study with a CFD Code
서승택, 이광순, 양대륙, 최범규
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회
1 Dry Etching of SiO2 with C2F6 Plasma in an ICP Process: Numerical Study with a CFD Code
서승택, 이용희, 이광순
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회