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Real-time Multivariate Model Predictive Control of Plasma Etch Process 박담대, 구준모, 하대근, 유상원, 노현준, 한종훈 한국화학공학회 2016년 가을 학술대회 |
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Iterative learning control with quadratic performance index for recipes control of batch-to-batch process 오세규, 이종민 한국화학공학회 2013년 가을 학술대회 |
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Amorphous Silicon 증착 PECVD 공정을 위한 실시간 두께 예측 Virtual Metrology 개발 장원혁, 강유진, 이주화 한국화학공학회 2009년 가을 학술대회 |
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Delta-form LQG Control Technique combined with Run-to-Run Improvement of Feedforward Signal for Wafer Temperature Uniformity in 12-inch Rapid Thermal Processing 원왕연, 이광순, 이세찬, 지상현, 나병철 한국화학공학회 2009년 가을 학술대회 |
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Combined Run-to-Run and Real-time Multivariable Control for Wafer Temperature Uniformity in a 12-inch RTP Equipment 원왕연, 윤우현, 이광순, 지상현, 나병철, 이세찬 한국화학공학회 2008년 봄 학술대회 |
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Run-to-Run Control of Inductively Coupled C2F6 Plasma Etching of SiO2: Multivariable Controller Design and Numerical Application 서승택, 이광순, 양대륙, 최범규 한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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반도체 및 관련공정의 제어와 최적화 이광순 한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
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Dry Etching of SiO2 with C2F6 Plasma in an ICP Process: Numerical Study with a CFD Code 서승택, 이광순, 양대륙, 최범규 한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
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Dry Etching of SiO2 with C2F6 Plasma in an ICP Process: Numerical Study with a CFD Code 서승택, 이용희, 이광순 한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |