| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2005년 봄 (04/22 ~ 04/23, 여수대학교) |
| 권호 | 11권 1호, p.144 |
| 발표분야 | New Frontiers in Process Systems Engineering |
| 제목 | 반도체 및 관련공정의 제어와 최적화 |
| 초록 | 반도체와 디스플레이는 현재 국내 경제를 선도하는 가장 중요한 산업을 이루고 있으며, 앞으로도 상당 기간 이러한 기능을 지속할 것이다. 본 발표에서는 공정공학적 측면, 특히 제어와 최적화의 관점에서 반도체와 디스플레이 공정에 화학공학도들이 기여할 수 있는 문제들을 구체적인 예를 통하여 소개 한다. 특히, RTP, 플라즈마 및 전기도금 공정, 그리고 nano-imprinting을 비롯한 각 종 nano 공정의 제어와 최적화에 대한 연구 현황 및 미래의 연구 과제들을 소개한다. 이와 더불어 생산공장에서 run-to-run 제어와 FDC (Fault Diagnosis and Classification)를 중심으로 한 APC (Advanced Process Control)의 개념과 현황도 소개한다. |
| 저자 | 이광순 |
| 소속 | 서강대 |
| 키워드 | RTP; 플라즈마 및 전기도금 공정; nano-imprinting; run-to-run 제어; APC |
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| 원문파일 | 초록 보기 |
