투명 유전체 PbO-B  2   O  3   - SiO 2 ?Al 2 O 3   의 물성 및 전극(ITO)과의 반응성 연구

이재열; 홍경준; 김덕남; 김형순; 허증수; Jea Yeol Lee; Kyung Jun Hong; Deock Nam Kim; Hyung Sun Kim; Jeung-Soo Huh

Korean Journal of Materials Research, Vol.11, No.4, 305-311, April, 2001

투명 유전체 PbO-B 2 O 3 - SiO 2 ?Al 2 O 3 의 물성 및 전극(ITO)과의 반응성 연구

Characteristics of transparent dielectric in PbO-B 2 O 3 - SiO 2 ?Al 2 O 3 system and investigation of reaction between dielectric and electrode(ITO)

이재열, 홍경준, 김덕남¹, 김형순¹, 허증수

경북대학교 금속공학과
¹순천대학교 재료 금속공학과

Jea Yeol Lee, Kyung Jun Hong, Deock Nam Kim¹, Hyung Sun Kim¹, and Jeung-Soo Huh

Dept. of Metall. Eng., Kyungpook National University, Korea
¹Dept. of Mat. Sci. and Metall. Eng., Sunchon National University, Korea

초록

PDP용 투명유전체 재료로 사용되는 PbO?B 2 O 3 ?SiO 2 ?Al 2 O 3 계의 소성과정 중에서 투명전극 (ITO)과의 반응성 및 광학적, 열적, 전기적 특성을 조사하였다. 본 연구에서 유전체막.두께는 12 μm 으로, 온도는 550-58 0 ? C 에서 소성한 후 여러 물성을 평가하였다 그 결과로, 유전체와 투명전극(ITO)의 반용에서, In 이온이 유전체층으로 확산이동하였으며, Sn 확산은 거의 발생하지 않았다. 선팽창계수, 유전상수, 유리전이온도,광 투과율은 유전체 조성의 PbO 양에 큰 영향을 받았다. PbO양 증가는 선팽창계수와 유전상수를 증가시킨 반면, 유리전이온도와 광 투과율온 저하시켰다. Al 2 O 3 /B 2 O 3 비가 증가함에 따라서는 선팽창계수는 감소, 유전상수는 증가, 광 투과율은 감소하였으며, 유리 전이점 변화는 거의 나타나지 않았다.

Keywords:Plasma Display Panel;PbO-B 2 O 3 -SiO 2 ?Al 2 O 3;Dielectric layer;ITO electrode

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[Related Articles]

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