화학공학소재연구정보센터
학회 한국고분자학회
학술대회 2005년 가을 (10/13 ~ 10/14, 제주 ICC)
권호 30권 2호
발표분야 고분자 합성
제목 Synthesis and Characterization of New Photosensitive Soluble Polyimides with o-Nitrobenzyl Ether Groups
초록 Super engineering plastic인 polyimide는 높은 열 안정성, 기계적 성질, 낮은 유전상수와 열팽창계수 그리고 높은 radiation resistance, chemical resistance등이 매우 우수한 것으로 알려져 있다. 이러한 우수한 성질 때문에 polyimide는 높은 제조 단가와 가공성의 어려움에 불구 하고 microelectronics, photonics, optics, aerospace등의 첨단 산업 분야에서 고 기능성 재료로 널리 인식 및 사용되고 있으며, 현재는 많은 연구자들에 의해 새로운 성질과 구조를 가지는 polyimide 개발을 위한 시도가 끊임 없이 이루어 지고 있다.
본 연구에서는 우수한 물성을 가지는 polyimide에 새로운 성질을 가지는 광 기능성 그룹을 곁가지로 도입하여 그 응용특성을 조사하고자 하였다.
주요 반응은 3,3', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride(BTDA)를 기초로 여러 유기화학반응 단계를 거쳐 2,2'-dihydroxybenzophenone-3,3', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride(BDHAN)을 합성하고 ODA(diamine monomer)와 chemical imidization을 통해 유기 용매에 용해성을 가지는 polyimide를 합성하였다. 이후 polymer reaction으로 2, 2'-위치에 광 반응기인 o-nitrobenzyl ether groups을 도입하였다.
o-Nitrobenzyl ether groups을 가지는 polyimide는 FT-IR과 H1, C13-NMR로 반응을 확인 하였고, TGA, DSC, SAXS, WAXS 등을 통해 기본적인 물성분석을 실시 하였다. 또한 o-nitrobenzyl ether groups의 photosensitive특성과 polyimide의 용해특성을 분석하기 위해 노광량과 현상시간에 따른 박막의 두께 변화를 관찰 하였고, FE-SEM으로 확인을 하였다.


저자 신교직1, 정진철2
소속 1포항공과대, 2고분자 (연)
키워드 polyimide; BTDA; ODA; PSPI
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