| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2017년 봄 (05/17 ~ 05/19, 목포 현대호텔) |
| 권호 | 23권 1호 |
| 발표분야 | G. 나노/박막 재료 분과 |
| 제목 | Properties of Inductively Coupled Plasma Source Applied to Internal Linear Antenna using Superimposed Dual Frequency |
| 초록 | 현재 전자산업에서는 flexible 및 wearable device 시장의 창출에 큰 관심을 두고 있으며, 이러한 차세대 전자기기를 구현하기 위해서는 새로운 형식의 공정 요소 기술개발이 필수적이다. Display 공정에서 사용되는 핵심기술로서 plasma를 이용한 기술이 있으며, flexible 및 wearable device 기술을 위한 plasma source 개발뿐만 아니라 display 장비의 대형화에 따른 대면적 공정에 적합한 plasma source 개발이 함께 진행되고 있다. 이러한 plasma source의 특성으로 제품의 공정속도와 제품의 수율과 관계가 있는 plasma density, plasma uniformity 등이 중요한 요소로서 개발이 요구되고 있다. 본 연구에서는 internal linear type antenna에 dual frequency를 적용하는 superimposed ICP antenna source를이용하여 plasma density 조절과 plasma uniformity 개선에 대한 연구를 진행하였다. 장비의 대면적화에 따른 antenna 길이 증가로 인해 발생하는 정상파 효과를 최소화하기 위해 internal linear antenna를 사용하였으며, 하나의 antenna에 low frequency (2 MHz, 6 MHz)와 high frequency (13.56 MHz)를 함께 인가한 경우와 single frequency (13.56 MHz)를 인가한 경우와의 plasma 특성을 비교하였다. Oscilloscope를 사용하여 2 MHz와 13.56 MHz 그리고 6 MHz와 13.56MHz 에 인가되는 power ratio에 따른 current wave와 voltage wave의 변화를 확인하였다. Home-made multi-hole electrostatic probe를 사용하여 13.56 MHz과 함께 인가되는 low frequency의 변화와 power ratio에 따른 plasma density와 plasma uniformity를 측정하였으며, Plasma Sampling Mass spectrometer를 이용하여 power ratio에 따른 〖Ar〗^+ ion energy 변화를 확인하였다. Superimposed dual frequency로 plasma를 방전하여, high frequency와 low frequency에 인가되는 power ratio control만을 이용하여 plasma density와 uniformity가 조절할 수 있다는 가능성을 확인하였다. |
| 저자 | 이수정1, 김도한1, 김태형1, 김수강1, 이원오1, 김경남2, 염근영1 |
| 소속 | 1성균관대, 2대전대 |
| 키워드 | superimposed Dual frequency; ICP; Plasma |
