학회 | 한국화학공학회 |
학술대회 | 2000년 봄 (04/21 ~ 04/22, 한양대학교) |
권호 | 6권 1호, p.2021 |
발표분야 | 재료 |
제목 | LPCVD를 이용한 ZrN의 제조 |
초록 | Tetrakis(dimethylamine)zirconium(TDMAZ)을 전구체로, LPCVD를 이용해 ZrN 박막을 제조하고, 공정의 mechanism을 FT-IR을 이용하여 조사하였다. 300도 이상에서 H2운반기체를 사용하여 증착하였을 때, Ar이나 N2운반기체에 비해 증착속도가 현저하게 높게 나타남을 알수 있었고, FT-IR실험결과 이러한 차이는 전구체 TDMAZ이 H2운반기체 사용시 안정하였기 때문으로 밝혀졌다. |
저자 | 김일우, 김도형 |
소속 | 전남대 |
키워드 | LPCVD; Zirconium Nitride; metallization; diffusion barrier |
원문파일 | 초록 보기 |