| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2018년 봄 (05/02 ~ 05/04, 대구 엑스코(EXCO)) |
| 권호 | 22권 1호 |
| 발표분야 | (특별세션) 반도체 공정소재 |
| 제목 | Analysis of thin film using in-situ Raman spectroscopy in CVD process |
| 초록 | 우리나라 최대 첨단산업으로는 반도체, 디스플레이, 태양전지 등이 있으며, 이러한 분야에서의 공통핵심기술 중에는 박막기술이 있다. 이러한 박막기술중 현재 개발 방향에 있어서 첨단 소형 디바이스들의 개발에는 차세대 박막의 개발을 위한 공통되는 박막 분석 기술이 필수적으로 필요하다. 그러나 박막 직접 분석 기술은 공정 챔버에 적용하여 In-situ로 분석하기에 부족한 점이 있고, 기술적 난점을 해결하여야 하는 문제점이 있다. 본 연구에서는 CVD를 이용하여 TiO2박막 성장과정을 CVD공정 챔버 내의 환경을 최대한 보존한 상태에서 라만광분석기를 이용하여 박막 형성 공정 중 손상을 동반하지 않고, in-situ 분석을 통해 박막의 성분이나, 분자의 결정성 등을 분석을 하고자 한다. 또한 성장된 TiO2박막에 대해 XPS, SEM분석을 진행하여 비교 분석하였으며, 이를 통해 In-situ 분석의 검증을 진행하였다. |
| 저자 | 허훈1, 유은성1, 김재훈1, 전재성1, 소대섭2, 정낙관3, 윤주영3 |
| 소속 | 1한국생산기술(연), 2한국과학기술정보(연), 3한국표준과학기술(연) |
| 키워드 | CVD; raman; in-situ |
