| 학회 |
한국공업화학회 |
| 학술대회 |
2005년 봄 (05/13 ~ 05/14, 충남대학교) |
| 권호 |
9권 1호 |
| 발표분야 |
나노 |
| 제목 |
실란 펄스 플라즈마 공정에서의 플라즈마 화학 분석 |
| 초록 |
본 연구에서는 SiH4 펄스 플라즈마 반응기에서 음이온이 입자 생성을 위한 전구체로 작용함을 가정하여 음이온 클러스터들의 성장 반응에 중요하게 관련된 18개의 화학종들의 농도분포 변화를 분석하였다. plasma-on 시간 동안, SiHx 라디칼은 SiH4의 전자 충돌 해리 반응에 의해 생성되므로 SiHx 농도는 증가하였고 두 전극방향으로의 확산에 의해 벌크 플라즈마 영역에서의 농도가 두 전극에서보다 높게 나타났다. plasma-off 시간 동안에는 SiHx의 수소와의 반응과 확산 및 유체 대류의 영향으로 SiHx 농도는 감소하였다. plasma-on 시간 동안 음이온 중합 반응에 의해 음이온들의 농도는 증가하였고 두 전극에서의 전기적인 반발력에 의해 두 쉬스 영역에서 음이온들의 농도는 0에 접근하였다. plasma-off 시간 동안, 양이온과의 중성화 반응에 의해 시간이 지남에 따라 음이온 농도는 감소하였고 전기장의 세기가 0이 되므로 유체 대류와 확산에 의해 두 쉬스 영역에서도 음이온들이 존재하였다. 펄스 플라즈마 공정에 의해 플라즈마에서 음이온 클러스터들의 생성과 성장은 효과적으로 억제될 수 있었다. |
| 저자 |
김동주, 김교선
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| 소속 |
강원대 |
| 키워드 |
실란 펄스 플라즈마 공정; 플라즈마 화학; 나노 입자 코팅; 박막 제조
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