| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2014년 봄 (04/30 ~ 05/02, 제주국제컨벤션센터) |
| 권호 | 18권 1호 |
| 발표분야 | 포스터-에너지저장.변환 |
| 제목 | Study on the 3-D surface treatment of porous TiO2 used in DSSC using Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition: 3D surface treatment and Improved open circuit voltage of DSSC |
| 초록 | ALD는 원자층 단위로 두께를 정확히 조절하여 박막을 성막할 수 있다. 뿐만아니라 porous한 구조를 갖는 기판에도 3차원적으로 균일한 박막을 얻을 수 있다. 그리고 Plasma를 이용하여 성막을 진행하는 PEALD는 Plasma에 의한 긍정적인 효과를 같이 가지면서 성막할 수 있다. DSSC에 사용되는 porous TiO2 광전극의 3차원 표면 상에 ALD와 PEALD를 이용하여 Alumina를 형성하였고 이를 통해 형성된 각각의 Alumina의 구조적인 차이점에 대해서 고찰하였다. 그리고 이들이 염료감응태양전지의 개방전압에 미치는 영향에 대해서 고찰하였다. |
| 저자 | 강고루1, 김태성2, 김진태1, 윤주영1 |
| 소속 | 1한국표준과학(연), 2성균관대 |
| 키워드 | Dye sensitized solar cells; Porous titania; 3D surface treatment; Ultra thin Alumina; Plasma enhanced atomic layer deposition(PEALD) |
