| 초록 |
본 연구에서는 반도체제조에 필수적으로 사용되는 플라즈마 장비의 개발단계에서부터 성능을 예측하고 분석하여개발시간과 비용의 절감, 장비의 성능을 극대화 할 수 있는 전산모사 환경인 VIP-SEPCAD를 개발하고 있다. VIP-SEPCAD는플라즈마의 물리/화학적 특성을 예측하는 plasma model (CSM/EMM), 중성 화학종들의 반응 및 유동 특성을 예측하는neutral reaction-transport model (NSM), particle의 유동 특성을 예측하는 dust particle model (DPM), particle의생성 및 성장 특성을 예측하는 particle formation-growth model (PFM), 웨이퍼 표면의 변화를 예측하는 surfaceevolution model (SEM)로 구성되어 있다. 현재 완성된 CSM/EMM, NSM, DPM을 사용하여 산소플라즈마를 이용하는 공정에서플라즈마의 특성 및 화학종의 분포를 예측하였고, 산소플라즈마에 존재하는 particle의 거동에 대하여 분석하였다. |
