| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2001년 봄 (04/27 ~ 04/28, 연세대학교) |
| 권호 | 7권 1호, p.2014 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | Level set 방법을 이용한 실리콘 식각 프로파일 모사 |
| 초록 | 반도체의 초고집적 회로에서 선폭의 감소는 높은 비등방성 식각을 요구하고 있다. 그러므로, 실리콘의 플라즈마 식각공정은 다양한 반도체 회로 제작단계에서 중요한 공정 단계로 부각되고 있다. 본 연구에서는 string 알고리즘의 단점을 보완하고 계산상의 오차를 줄일 수 있는 Level Set방법을 사용하였다. 본 연구에서는 독립적인 플라즈마 sheath dynamics를 개발하였고, 실리콘의 측벽에서 발생하는 ion reflection을 고려하였다. 최종적으로, 수치해석 결과들은 실리콘 식각공정에서 발생하는 microtrenching현상을 설명할 수 있다. |
| 저자 | 임연호, 박진수, 한윤봉 |
| 소속 | 전북대 |
| 키워드 | Simulation; inductively coupled plasma; ICP; High Density Plasma; Silicon; etch profile; sheath dynamics |
| 원문파일 | 초록 보기 |
