| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2000년 봄 (04/21 ~ 04/22, 한양대학교) |
| 권호 | 6권 1호, p.1857 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | 초고집적 반도체 세대의 공정 기술 |
| 초록 | 본 논문은 최근의 반도체 제조 공정기술 변화를 보고 하고자 한다. 즉, 최근의 반도체 기술은 향후 작은 chip size와 high performance를 요구함에 따라 이에 따른 공정기술은 새로운 재료 및 적용 방법을 요구하게 되었다. 본 논문에서는 대표적인 공정 분야인 lithography, isolation, etching, gate technology, metallization, capacitor technology의 new trends를 나타내고자 한다. |
| 저자 | 김재정 |
| 소속 | 서울대 |
| 키워드 | Lithography; isolation; implantation; gate material; dielectrics; metallization |
| 원문파일 | 초록 보기 |
