| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2001년 봄 (04/27 ~ 04/28, 연세대학교) |
| 권호 | 7권 1호, p.97 |
| 발표분야 | 촉매/반응공학 |
| 제목 | 다중 Wafer에 균일한 SiC피복용 새로운 CVD-Boat Reactor의 개발 |
| 초록 | 본 연구는 다량의 wafer상에 균일한 expitaxial film을 석출시킬 수 있는 새로운 CVD 반응기를 개발할 목적으로 wafer 자체가 baffle 역할을 하기 위해 25% Baffle window를 갖는 twin circular tubular reactor를 만들고 균일한 Pyrolytic carbon과 SiC의 석출을 연구한 것이다. |
| 저자 | 이보성 |
| 소속 | 호서대 |
| 키워드 | new Development of CVD-Boat Reactor |
| 원문파일 | 초록 보기 |
