| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2002년 가을 (10/24 ~ 10/26, 서울대학교) |
| 권호 | 8권 2호, p.5194 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | MRAM 응용을 위한 자기박막의 고밀도 플라즈마 식각 |
| 초록 | In this work, to elucidate the etch characteristics of the magnetic films deposited by RF magnetron sputtering technique, parametric study of ICP etching with Cl2/Ar discharges has been carried out. We investigated etch rate, etch profile and surface morphology as the function of the processing parameters such as ICP source power, rf chuck power, operating pressure and etch gas concentration. |
| 저자 | 박형조1, 한윤봉2 |
| 소속 | 1전북대, 2화학공학부 |
| 키워드 | High-Density Plasma Etching; MRAM |
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| 원문파일 | 초록 보기 |
