| 학회 |
한국화학공학회 |
| 학술대회 |
2000년 봄 (04/21 ~ 04/22, 한양대학교) |
| 권호 |
6권 1호, p.2291 |
| 발표분야 |
유동층 |
| 제목 |
한 화공 벤처기업의 현황과 21세기 유망 화공벤처 분야 |
| 초록 |
창업한지 30년도 안 되는 마이크로소프트사와 씨스코 시스템사가 세계 제일의 기업 자리를 다투고 있다. 이외에도 수많은 벤처기업들이 미국 나스닥 시장에 상장되어 많은 벼락 부자와 신화를 만들어 내고 있다. 우리나라도 지난해부터 코스닥 시장이 활성화 되어 많은 벤처 신화가 만들어 지고 있다. SK 텔레콤은 설립한지 16년도 안 되는 회사지만 시장가치 35조원 이상으로 국내 4대 기업으로 부상했다.필자는 지난 20년간 미국 실리콘 밸리에서 일어나는 많은 벤처 신화를 지켜 보면서, 벤처기업을 시작하기가 무척 어려운 화공 분야에 종사하는 자신을 안타깝게 생각하곤 했다. 화학 공업은 대량생산을 위한 학문으로서 화학공장 건설에 보통 수 천억원이 소요되기 때문에 창업하기가 매우 힘든 것이다.마침 기회가 있어 필자가 최근 창업한 화공 벤처기업을 소개하고, 코스닥 시장의 활성화로 보다 용이 해진 화공 벤처 창업의 21세기 유망분야를 살펴 보고자 한다.
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| 저자 |
이면기 |
| 소속 |
아신기술 주식회사 |
| 키워드 |
Venture; License; PTA; PIA; TMA
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| E-Mail |
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| 원문파일 |
초록 보기 |
